光催化反應儀技術參數：

型號：CH-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續調節大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

4.氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

5.金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

（二）小容量反應部分

1.石英試管規格：30ml、50ml（或定做）。

2.可同時處理8個樣品（或定做）。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

（三）大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（四）控溫裝置

1.冷卻水循環裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學反應儀產品配置：

光化學反應儀在操作、維護和儀器的所有階段，都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時應按照說明書來操作，違規使用會造成儀器無法正常工作，甚至損壞儀器。
防觸電措施
確保接地保護：為避免觸電事故，儀器的輸入電源線必須接地，其使用的三芯接地插頭有接地腳，若插頭無法插入插座，應請電工安裝正確插座，不可使儀器失去接地保護。
規范使用電源線：通常使用隨機附帶的電源線，若電源線破損，必須更換，且需用相同類型和規格的電源線代替，嚴禁修理破損電源線。使用時，電源線上不許放置任何物品，也不要置于人員走動的地方。
電源連接要點
核對電壓與負載：連接交流電源前，要確保電壓與儀器要求一致（允許±10%偏差），同時保證電源插座的額定負載不小于儀器要求。
光化學反應儀維護保養注意事項
高效的儀表設備管理對于確保設備穩定運行和減少故障率至關重要。高負荷運行下的儀表設備更容易出現意外故障，尤其是光學儀表，若因維護不當或使用不當而起霧，將無法發揮其應有的功能，從而給工作帶來不便。
光學部件防霧措施
設計與制造階段：儀器結構應加強密封性能，保證在高溫或低溫情況下不降低密封性能，防止因漏氣引起水性霧；選擇化學穩定性能好的光學玻璃和材料。
裝配與維修過程：裝配和維修的工房須清潔，嚴格遵守操作規程，精心擦拭光學零件，嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件，夾持工具須脫脂處理，擦光學零件所用輔件（如棉光、布塊、乙醇等）須嚴格脫脂，裝光學零件的器皿和盛乙醇的瓶子須經常清洗。
減少內部水蒸氣：盡可能在干燥條件下裝配儀器，或對裝配好的儀器進行干燥處理，如充干燥氮氣或空氣以及放置干燥劑3。
合理選擇和使用油脂：光學儀器上用的防塵脂、潤油油脂應是揮發度低和化學穩定性好的材料。在金屬零件上涂油脂時，需先清洗干凈零件，讓汽油揮發完后再涂，且要涂均勻、不過多，距光學件10-15mm范圍內禁止涂潤滑油脂和防塵脂。
提高玻璃表面性能：利用化學鍍膜或真空鍍膜方法在玻璃表面鍍一層憎水膜，提高化學穩定性和抗腐蝕能力，減少起霧；也可采用親水材料鍍親水膜，使水霧散開不影響觀察3。
日常防霧處理：可使用防霧劑或者定期對光學部件進行清潔和干燥處理，確保光學系統清晰透明4。若儀器已生霉起霧，在初期階段（僅附蓋玻璃表面層，未侵蝕玻璃和破壞膜層），可用混合液擦掉，也可用乙基含氫二氯硅烷溶液擦洗；多倍儀的綠色濾光片（磷酸鹽玻璃）易起霧，可用稀氨水擯洗，而后用水洗凈，再及時用混合液擦干，不用時擦凈放在干燥皿內或及時作防霧處理。
儀器存放與環境要求
存放位置：應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置，為保證良好散熱效果，儀表通風處與其它物品應保持有效距離（N﹥30cm）。
維護管理計劃
制定合理的維護管理計劃，定期檢查和保養設備，將非計劃性工作轉化為計劃性工作，通過定期檢查保養來減低故障發生，做好儀器的三防工作，避免搶修工作，保證儀器隨時能投入正常使用

光催化反應儀光化學反應釜，又稱為光化學反應儀，多功能光化學反應器，光催化反應裝置，多功能光化學反應儀等多系列光催化裝置是參考國外進口光化學反應儀的基礎上和國內實驗室實踐合作共同開發的新一代光化學反應裝置，主要用于研究氣相、液相固相、流動體系在模擬紫外光、模擬可見光、特種模擬光照射下，是否負載TiO2光催化劑等條件下的光學反應。
光化學反應與一般熱化學反應的差別
1、加熱使分子活化時,體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布;而分子受到光激活時，原則上可以做到選擇性激發(能躍值的選擇、電子激發態模式的選擇等)，體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學反應的途徑與產物往往和基態熱化學反應不同。
2、只要光的波長適當，能為物質所吸收，即使在很低的溫度下，光化學反應仍然可以進
光化學反應儀分為A型多試管 B型大容量以及D型多功能系列產品